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SW系列硅片抛光液
新安纳公司开发的SW系列硅片抛光液以自主研发的胶体二氧化硅为磨料,具有去除速率高、循环寿命长、抛光性能稳定、抛光表面质量好和易清洗等特点。产品分粗抛和精抛两个系列。

硅片粗抛液:

1.抛光速率快、抛光几何参数好。

2.抛光垫污染小

3.循环使用稳定性好。

4.高稀释比(1:40)

5.抛光后表面易清洗。

6.无划伤和拉丝

   

硅片精抛液:

1.抛光液纯度高,抛光后表面金属残留低。

2.表面质量好。