2024-12-27 星期周五 上海新安纳电子科技有限公司
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新安纳公司开发的SW系列硅片抛光液以自主研发的胶体二氧化硅为磨料,具有去除速率高、循环寿命长、抛光性能稳定、抛光表面质量好和易清洗等特点。产品分粗抛和精抛两个系列。
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硅片粗抛液:
1.抛光速率快、抛光几何参数好。
2.抛光垫污染小
3.循环使用稳定性好。
4.高稀释比(1:40)
5.抛光后表面易清洗。
6.无划伤和拉丝
硅片精抛液:
1.抛光液纯度高,抛光后表面金属残留低。
2.表面质量好。
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